三星芯片厂再现氢氟酸泄漏 曾试图掩盖

2013-05-03 10:38:25  来源:新华网

  新华网专电 韩国三星电子有限公司一家主要芯片厂2日发生高毒性的氢氟酸泄漏,3名工人受伤。

  事发南部城市水原的三星半导体华城工厂,距首都首尔南部大约60公里。这家企业说,当天上午11时30分左右,工人对现有设施部件进行升级改造时发生氢氟酸泄漏。

  三星一名不愿公开姓名的官员告诉韩联社记者:“仅有少量氢氟酸泄漏。”他拒绝提供更多细节。

  3名工人受轻伤,送入附近医院治疗。

  三星在一份声明中说,已把这一事件报告地方当局,将完全配合调查。

  与此同时,韩国雇佣劳动部说,三星显然没有遵守安全规章。这次发生泄漏的管道与上次事故一样。

  今年1月28日,这家工厂发生氟化氢泄漏事故,导致1死4伤。当时,工人正在更换管道,因阀门熔化造成氟化氢泄漏。三星被指非但没有迅速把这一事件报告给当局,反而试图掩盖。

责任编辑: 房小葵
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