中微28到15纳米等离子体刻蚀机荣获工博会金奖

  上海2014年11月28日电/美通社/ -- 中微半导体设备有限公司(简称“中微”)今日宣布在本月初举办的第十六届中国国际工业博览会上荣获金奖。这一奖项彰显了中微十年来在先进技术自主创新方面取得的可喜成绩。中微此次获奖产品是其处于行业领先地位的去耦合等离子体介质刻蚀机Primo AD-RIE®,该设备能够满足28到15纳米及更先进工艺芯片制造的严苛要求。此次工博会有四家单位获颁金奖,中微是其中之一。

  这是中微连续第二年蝉联工博会奖项。去年中微公司的MOCVD设备Prismo D-BLUE®荣获工博会银奖第一名,该设备已被主流LED生产线采用并进行大批量LED外延生产。工博会奖项评审极其严格,同一家公司连续两年获奖实属少数。

  中微半导体设备有限公司今日宣布在本月初举办的第十六届中国国际工业博览会上荣获金奖。这一奖项彰显了中微十年来在先进技术自主创新方面取得的可喜成绩。

  “中微的两种不同产品分别于去年获银奖、今年获金奖,确实显示了中微从2004年成立以来取得的强劲的技术和业务发展势头。”中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士说道,“这项荣誉归功于我们的技术团队,他们每天都在为推动技术的进步,为给客户提供最好的技术和设备,并为节省生产成本而努力奋斗。”

责任编辑:简静

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